[发明专利]硅片超声波清洗装置

摘要

本发明涉及硅片生产设备技术领域，尤其是涉及一种硅片超声波清洗装置，包括具有清洗槽的机架，所述机架上转动设置有底板，所述底板位于所述清洗槽内，所述底板上设有超声波换能器，所述机架上设有用于驱动底板摆动的第一驱动装置，所述清洗槽内设有用于放置插片盒的框架，本发明硅片超声波清洗装置在使用时，通过第一驱动装置带动底板摆动，使得超声波换能器多角度对硅片进行清洗，同时通过摆动机构实现框架上的硅片小幅转动，从而实现对硅片更好的清洗，本发明能够多角度对硅片进行清洗，清洗效率高，避免了硅片在清洗槽内静止不动，使得硅片上较难清洗的杂质无法被清洗，降低了后续生产出来硅片的质量的问题。

主权项

一种硅片超声波清洗装置，包括具有清洗槽(101)的机架(1)，其特征在于：所述机架(1)上转动设置有底板(2)，所述底板(2)位于所述清洗槽(101)内，所述底板(2)上设有超声波换能器(3)，所述机架(1)上设有用于驱动底板(2)摆动的第一驱动装置(4)，所述清洗槽(101)内设有用于放置插片盒的框架(5)，所述框架(5)位于所述底板(2)上方，所述机架(1)上设有用于带动框架(5)摆动的摆动机构。