[发明专利]化学机械抛光终点检测装置在审
| 申请号： | 201710245274.0 | 申请日： | 2017-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN106926110A | 公开（公告）日： | 2017-07-07 |
| 发明（设计）人： | 王军星;郭振宇;沈攀;雷殿波;路新春 | 申请（专利权）人： | 天津华海清科机电科技有限公司;清华大学 |
| 主分类号： | B24B37/013 | 分类号： | B24B37/013;H01L21/306;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人： | 黄德海 |
| 地址： | 300350 天津市津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光终点检测装置，包括装置与化学机械抛光平台配合使用，化学机械抛光平台的抛光盘上设置有窗口，装置包括平面反射镜；搭载平面反射镜的转轴，转轴用于调整平面反射镜的角度；光发射模块，用于发出激光线，激光线经由平面反射镜通过窗口照射到抛光盘上的晶圆表面；光检测模块，用于接收经由窗口接收晶圆的反射光线，以根据反射光线确定化学机械抛光工艺的终点。该实施例的化学机械抛光终点检测装置通过转轴可调节激光线射向化学机械抛光平台的抛光盘上窗口的角度，由此，提高了该装置的可调节性，容错性，可适用于不同厂家的化学机械抛光平台。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 终点 检测 装置 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光终点检测装置，其特征在于，所述装置与化学机械抛光平台配合使用，所述化学机械抛光平台的抛光盘上设置有窗口，所述装置包括：平面反射镜；搭载所述平面反射镜的转轴，所述转轴用于调整所述平面反射镜的角度；光发射模块，用于发出激光线，所述激光线经由所述平面反射镜通过所述窗口照射到所述抛光盘上的晶圆表面；光检测模块，用于接收经由所述窗口接收所述晶圆的反射光线，以根据所述反射光线确定化学机械抛光工艺的终点。
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