[发明专利]一种球体研磨装置在审
申请号: | 201710247039.7 | 申请日: | 2017-04-17 |
公开(公告)号: | CN106891242A | 公开(公告)日: | 2017-06-27 |
发明(设计)人: | 谢军;黄燕华;蒋柏斌;刘艳松;杜凯;何智兵;王涛;张海军;李国;宋成伟;魏胜;袁光辉;高莎莎;初巧妹;张昭瑞;李朝阳;易泰民;杨洪 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | B24B37/025 | 分类号: | B24B37/025;B24B37/34 |
代理公司: | 中国工程物理研究院专利中心51210 | 代理人: | 翟长明,韩志英 |
地址: | 621999 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种球体研磨装置,所述的球体研磨装置采用磨盘研磨结构,上研磨盘与下研磨盘均设置有与其自身旋转轴同心的V形槽,球体位于上研磨盘与下研磨盘V形槽相交处,上研磨盘与下研磨盘作转动方向相反的运动,并间隔相同的时间同时变换转动方向,球体受转动的上研磨盘与下研磨盘的摩擦力、上研磨盘压力的作用下作公转运动,同时连续地作自转运动,从而实现对球体材料的均匀去除。本发明特别适用于直径0.5mm~3mm的球体的单粒或小批量球体研磨,本发明结构简单、操作方便。 | ||
搜索关键词: | 一种 球体 研磨 装置 | ||
【主权项】:
一种球体研磨装置,其特征在于:所述的球体研磨装置包括齿轮副II(7)、底座(8)、主运动驱动电机(10)以及在底座(8)上方设置的上研磨盘(4)、驱动下沿导向柱(11)、滑块(12),还包括一个作回转运动的下研磨盘(6);其中,所述的上研磨盘(4)下表面设置有数个倒V形槽(22),下研磨盘(6)的上表面设置有数个V形槽(21),倒V形槽(22)与V形槽(21)角度相同;其连接关系是,所述的齿轮副II(7)、主运动驱动电机(10)固定设置在底座(8)内;所述的下研磨盘(6)位于底座(8)的中轴线上,下研磨盘(6)的下端通过齿轮副II(7)与主运动驱动电机(10)连接、上端设置有上研磨盘(4),上研磨盘(4)与下研磨盘(6)上下接触连接;所述的导向装置(11)设置在下研磨盘(6)的外围,与底座(8)固定连接;导向柱(11)上设置有滑块(12),滑块(12)与导向柱(11)滑动连接;所述的滑块(12)上固定设置有副运动驱动电机(2)、齿轮副I(3),上研磨盘(4)通过齿轮副I(3)与副运动驱动电机(2)连接;气缸(1)固定设置在导向柱(11)的横梁上;所述上研磨盘(4)的倒V形槽(22)与下研磨盘(6)的V形槽(21)上下对应设置,倒V形槽(22)与V形槽(21)的对应边相同;球体(5)置于倒V形槽(22)与V形槽(21)相交处;所述的气缸(1)、下研磨盘(6)、齿轮副II(7)、底座(8)为同轴心设置。
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