[发明专利]一种无掩膜激光直写光刻设备的快速边缘曝光方法在审
| 申请号： | 201710247305.6 | 申请日： | 2017-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN106950801A | 公开（公告）日： | 2017-07-14 |
| 发明（设计）人： | 吴琼;杨宇航;蔡潍;叶芳云;曹永珍 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙)34115 | 代理人： | 宋倩,奚华保 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种无掩膜激光直写光刻设备的快速边缘曝光方法，通过控制机台沿着待曝光衬底的边缘圆周方向运动，使得机台同时沿X、Y方向运动，并且只使得待曝光衬底的边缘得到曝光；本发明与整个衬底扫描式曝光相比，减少了机台的运动距离，提高了DMD系统的利用率，进而使设备产能得到提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 无掩膜 激光 光刻 设备 快速 边缘 曝光 方法 | ||
【主权项】：
一种无掩膜激光直写光刻设备的快速边缘曝光方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）将待曝光衬底置于机台上，所述待曝光衬底为圆形衬底，所述机台为二维精密运动机台；（2）计算机识别输入的边缘曝光图形并将其分解为DMD投影图；（3）计算机确定待曝光衬底实现边缘曝光所需的最少的DMD投影图和各DMD投影图在机台上对应的位置坐标；（4）计算机控制机台沿着待曝光衬底的边缘圆周方向运动，同时控制DMD系统输出对应的DMD投影图实现待曝光衬底的边缘曝光。
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