[发明专利]钼基催化剂

摘要

本发明公开“钼基催化剂”，属于化学合成领域。本发明钼基催化剂由钼离子和助剂组成，且钼离子和助剂的质量百分含量为80％～95％和5～20％，其中，钼离子是三价钼离子、四价钼离子、五价钼离子中的一种或数种，助剂是其他金属元素。本发明在活化阶段通入的氟气或六氟化钼总量等于钼离子的前体消耗氟气或六氟化钼理论量加上金属元素助剂消耗氟气或六氟化钼理论量，由于六价钼容易流失，因此在计算氟气用量时将钼离子还原尽量控制在三价、四价或五价的状态。本发明的钼基催化剂使用温度高、催化活性高、使用寿命长，主要用于高温下气相催化卤代烯烃发生氟‑氯交换反应制备含氟烯烃。

主权项

一种高活性钼基催化剂，所述高活性钼基催化剂由钼离子和助剂组成，钼离子为三价钼离子、四价钼离子、五价钼离子中的组合，助剂是Al、Mg、Ni、Co、Ti、Zr、V、Fe、Zn、In、Cu、Ag、Cd、Hg、Ga、Sn、Pb、Mn、Ba、Re、Sc、Sr、Ru、Nb、Ta、Ca、Ce、Sb、Tl、Hf中的至少一种或数种，且钼离子与助剂的质量百分组成为60％～100％和0～40％，该催化剂的制备方法如下：(1)按照钼离子与助剂的质量百分比，将钼离子的前体和助剂的前体混合均匀，压制成型，得到催化剂前体；(2)将步骤(1)得到的催化剂前体，在氮气氛围下于300℃～500℃进行焙烧6～15小时；(3)将步骤(2)得到的焙烧产物，于220℃～500℃，先抽真空，然后在密闭条件下，氟气中活化6～15小时，制得高活性钼基催化剂，所述氟气通入的总量等于钼离子的前体消耗氟气理论量加上金属元素助剂消耗氟气理论量总和；所述钼离子的前体消耗氟气理论量为大于钼离子的前体中钼离子还原成三氟化钼所需消耗的氟气理论量，且小于钼离子的前体中钼离子还原成五氟化钼所需消耗的氟气理论量；或者将步骤(2)得到的焙烧产物，于220℃～500℃，先抽真空，然后在密闭条件下，六氟化钼中活化6～15小时，制得高活性钼基催化剂，所述六氟化钼通入的总量等于钼离子的前体消耗六氟化钼理论量加上金属元素助剂消耗六氟化钼理论量总和；所述钼离子的前体消耗六氟化钼理论量为大于钼离子的前体中钼离子还原成三氟化钼所需消耗的六氟化钼理论量，且小于钼离子的前体中钼离子还原成五氟化钼所需消耗的六氟化钼理论量。