[发明专利]沉积处理监视系统和控制方法以及半导体器件制造方法

摘要

本发明提供了一种能够在沉积处理中检测腔室的内部状态的沉积处理监视系统以及一种控制沉积处理的方法和一种利用该系统制造半导体器件的方法。沉积处理监视系统包括设施盖，其构造为限定用于沉积处理的空间；位于设施盖中的腔室，所述腔室被半透明圆顶盖覆盖，并且具有其上放置沉积目标的支承件；布置在设施盖中的多个灯，所述灯分别布置在腔室的上部和下部，并且所述灯构造为在沉积处理中将辐射热能供应至腔室中；以及布置在腔室外的激光传感器，该激光传感器构造为用激光束辐射圆顶盖并且检测透过圆顶盖传输的激光束的强度，其中，基于检测到的激光束的强度来确定圆顶盖所涂布的副产物的状态。

主权项

一种沉积处理监视系统，包括：设施盖，其限定用于沉积处理的空间；位于设施盖中的腔室，通过透明圆顶盖来限定所述腔室，所述腔室具有腔室中的支承件，并且所述腔室构造为接收沉积目标；布置在设施盖中的多个灯，所述灯分别布置在腔室的上部和下部，并且所述灯构造为在沉积处理中将辐射热能供应至腔室中；以及第一激光传感器，其布置在腔室外，所述第一激光传感器构造为用激光束辐射圆顶盖并且检测透过圆顶盖传输的激光束的强度，其中，所述监视系统构造为基于检测到的激光束的强度来确定涂布在圆顶盖上的副产物的状态。