[发明专利]一种QLED器件、显示装置及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710264527.9 申请日: 2017-04-21
公开(公告)号: CN108735907A 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 钱磊;杨一行;曹蔚然;向超宇;陈崧 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 阳开亮
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于显示应用技术领域,提供了一种QLED器件、显示装置及其制备方法。该QLED器件包括依次设置的衬底、底电极、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层以及顶电极,还包括由空穴注入材料和界面修饰材料掺杂制成的空穴注入层,其中,界面修饰材料为p型导电材料。在本发明中,通过采用空穴注入材料和界面修饰材料掺杂制成空穴注入层,以此提高其空穴传输能力和电离能,降低空穴注入势垒,从而有效的提高电导,降低驱动电压,改善载流子的注入平衡,同时减少了器件的荷电,提高了器件的功率效率以及器件的使用寿命。
搜索关键词: 界面修饰 空穴注入材料 空穴注入层 材料掺杂 显示装置 制备 载流子 空穴传输能力 空穴注入势垒 应用技术领域 电子传输层 空穴传输层 功率效率 驱动电压 使用寿命 依次设置 注入平衡 底电极 电离能 顶电极 发光层 量子点 衬底 电导 荷电
【主权项】:
1.一种QLED器件,包括依次设置的衬底、底电极、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层以及顶电极,其特征在于,所述QLED器件还包括由空穴注入材料和界面修饰材料掺杂制成的空穴注入层,其中,所述界面修饰材料为p型导电材料。
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