[发明专利]联苯化合物及发光器件有效
申请号: | 201710264928.4 | 申请日: | 2017-04-21 |
公开(公告)号: | CN106966955A | 公开(公告)日: | 2017-07-21 |
发明(设计)人: | 黄达;曹辰辉;谢再锋;马腾达 | 申请(专利权)人: | 瑞声光电科技(常州)有限公司 |
主分类号: | C07D209/82 | 分类号: | C07D209/82;C07D209/86;C07D265/38;C07D279/22;C07D219/02;C07D209/56;C07D487/04;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54 |
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地址: | 213167 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种联苯化合物,其结构式如式I所示。其中,R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19和R10均各自独立地选自氢原子、含氟取代基或给电子基团,且R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19和R10中至少有一个含氟取代基和一个给电子基团。本发明还涉及含有该联苯化合物的发光器件。由于含氟取代基中含有氟原子,与使用CN基团的TADF材料相比,具有较小的表面能,对金属离子吸附能力较弱,使得提纯步骤简单,降低了材料的提纯成本,有利于工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 联苯 化合物 发光 器件 | ||
【主权项】:
一种联苯化合物,其特征在于,其结构式如式I所示:其中,R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19和R10均各自独立地选自氢原子、含氟取代基或给电子基团,R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19和R10中至少有一个取代基为含氟取代基,且R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19和R10中至少有一个取代基为给电子基团。
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