[发明专利]一种紧缩场暗室内馈源镜像波束的吸波反射阵控制装置有效
申请号: | 201710265719.1 | 申请日: | 2017-04-21 |
公开(公告)号: | CN107086377B | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 李志平;武建华;王正鹏;霍鹏 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | H01Q17/00 | 分类号: | H01Q17/00 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 杨学明;顾炜 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种紧缩场暗室馈源镜像波束的吸波反射阵控制装置,该装置主要由紧缩场反射面、馈源、微波暗室和镜像波束调控系统组成。通过控制区域内各吸波材料单元的高度将出射波前对齐调整至某远离静区的方向,目的是抑制区域反射杂波对静区的干扰,如馈源镜像反射。该装置由工作频率、馈源高度、静区高度和菲涅耳波带数目等参数确定。本发明的低频镜像波束控制具有宽带可重构性,通过镜像区内反射单元高度的连续控制,实现了低频暗室的宽带工作。 | ||
搜索关键词: | 一种 紧缩 暗室 馈源 波束 反射 控制 装置 | ||
【主权项】:
一种紧缩场暗室内馈源镜像波束的吸波反射阵控制装置,其特征在于:该装置主要由紧缩场反射面、馈源、微波暗室和镜像波束调控系统组成,其中,所述的馈源,是一种近似球面波辐射源,用于系统最终在静区内形成远场平面波时提供初始球面波源;所述的紧缩场反射面,是精密机械加工的曲面,通常中心实体部分为旋转抛物面或球面,边缘通常锯齿或卷曲处理,用以校正激励波前转换为所期望的波前,用于将激励源发出的电磁波反射后在较小距离内紧缩的在固定区域形成所需的远场平面波;所述的微波暗室,是采用吸波材料和金属屏蔽体组成,用于吸收或控制入射到墙面、天棚、地面的电磁波;所述的镜像波束调控系统,是一种吸波材料单元高度可调的控制系统,通过控制区域内各吸波材料单元的高度将出射波前对齐调整至某远离静区的方向,目的是抑制区域反射杂波对静区的干扰,如馈源镜像反射,且通过镜像区内反射单元高度的连续控制,可实现低频暗室的宽带工作。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学,未经北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710265719.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于可穿戴设备的反馈装置
- 下一篇:一种高频三相四线数字电源