[发明专利]一种提高光学器件激光损伤阈值和面形的IAD镀制方法

摘要

本发明属于光学镀膜技术领域，具体指一种同时提高IAD镀制高反光学薄膜激光损伤阈值和面形的镀制方法。其包括(1)基片加工，以紫外融石英为基片，通过水域超光滑抛光技术完成基片加工，使基片达到如下要求：粗糙度Ra值优于2埃，面型优于λ/15，光洁度优于10/5。(2)基片清洗，将步骤1中得到的基片放入超声波清洗原液中浸泡，取出后采用去离子水冲洗，然后用连续超声波槽进行超声波清洗，之后缓慢拉出水后，采用射灯烘烤，再用酒精乙醚试剂擦拭干净，放入真空室待镀。本发明大幅度提高激光损伤阈值和面形，而且所镀制的膜层致密好、吸收小、散射小、操作方法简单、产品指标稳定。

主权项

1.一种提高光学器件激光损伤阈值和面形的IAD镀制方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)基片加工，以紫外融石英为基片，通过水域超光滑抛光技术完成基片加工，使基片达到如下要求：粗糙度Ra值优于2埃，面型优于λ/15，光洁度优于10/5；(2)基片清洗，将步骤(1)中得到的基片放入超声波清洗原液中浸泡，取出后采用去离子水冲洗，然后用连续超声波槽进行超声波清洗，之后缓慢拉出水后，采用射灯烘烤，再用酒精乙醚试剂擦拭干净，放入真空室待镀；(3)真空镀膜，将经步骤(2)处理的基片放入真空室内后，进行抽真空处理，在真空度达到5Pa时，对真空室及该基片进行加热处理，同时在30分钟内将温度均匀加热到150℃，之后进行恒温处理，待真空室内的真空度达到1.0×10‑3Pa时，对基片开始实行离子源清洗至少10分钟；基片清洗过后，采用离子辅助沉积的方法沉积Ta2O5、Hf2O5和SiO2；(4)镀后处理，将步骤(3)镀膜后的基片进行应力消除处理；(5)成品测试，对步骤(4)中得到的消除应力后的基片进行弱吸收和激光损伤阈值进行测试，完成镀制工作。