[发明专利]一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201710270946.3 | 申请日： | 2017-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN107201034B | 公开（公告）日： | 2019-10-18 |
| 发明（设计）人： | 宋伟杰;张景;张贤鹏;鲁越晖;艾玲;李啸 | 申请（专利权）人： | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | C08L79/08 | 分类号： | C08L79/08;C08L33/12;C08L63/00;C08L69/00;C08L67/02;C08L61/16;C08K9/10;C08K7/26;C08K3/36;C08J5/18;C08J7/04;C08J7/06 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜，所述聚合物复合薄膜包括聚合物薄膜层和镶嵌有空心SiO2纳米粒子的有机无机复合层，通过在所述聚合物薄膜层的至少一面均匀镶嵌空心SiO2纳米粒子，在聚合物薄膜层表面形成所述镶嵌有空心SiO2纳米粒子的有机无机复合层。还公开了所述聚合物复合薄膜的制备方法，包括：依次在刚性基材上制备空心SiO2纳米粒子层和聚合物薄膜层，固化后剥离刚性基材，得到单面镶嵌空心SiO2纳米粒子的聚合物复合薄膜，在单面镶嵌空心SiO2纳米粒子的聚合物复合薄膜的基础上可进一步制备双面镶嵌空心SiO2纳米粒子的聚合物复合薄膜。所得聚合物复合薄膜能同时实现增透与抗原子氧剥蚀的性能，制备操作简单。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抗原 剥蚀 聚合物 复合 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜，其特征在于，所述聚合物复合薄膜包括聚合物薄膜层和镶嵌有空心SiO2纳米粒子的有机无机复合层，通过在所述聚合物薄膜层的至少一面镶嵌空心SiO2纳米粒子，在所述聚合物薄膜层表面形成所述镶嵌有空心SiO2纳米粒子的有机无机复合层；所述镶嵌有空心SiO2纳米粒子的有机无机复合层的厚度为80～300纳米；所述空心SiO2纳米粒子的平均粒径为20～100纳米，平均壁厚为6～20纳米。
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