[发明专利]一种用于CVD固态源的挥发装置有效
| 申请号： | 201710271043.7 | 申请日： | 2017-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN106861557B | 公开（公告）日： | 2023-03-10 |
| 发明（设计）人： | 郭国平;杨晖;李海欧;曹刚;肖明;郭光灿 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | B01J3/03 | 分类号： | B01J3/03 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人： | 郑立明;郑哲 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了种用于CVD固态源的挥发装置，包括上盖组件与及不锈钢釜体(1)构成的密闭反应釜；所述的上盖组件包括上盖法兰(2)，上盖法兰(2)上设有与反应釜内连通的进气管(3)与出气管(4)；进气管(3)伸入反应釜内部；所述的上盖法兰(2)上还设有固态源盛放装置，所述的固态源盛放装置包括不锈钢直棒(5)与固态源存放筒(6)；不锈钢直棒(5)外径不小于固态源存放筒(6)外径，通过螺纹连接；固态源存放筒(6)一端伸入反应釜内部；固态源存放筒(6)中空侧壁设有多个通气孔道(7)；所述的上盖法兰(2)上还设有温控装置的热电阻(8)，热电阻(8)测温端伸入反应釜内部；所述的不锈钢釜体(1)外侧设有温控装置的加热环。该装置可以实现固态源的方便填装，源温度的平稳控制，以及良好的密封性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 cvd 固态 挥发 装置 | ||
【主权项】：
一种用于CVD固态源的挥发装置，其特征在于，包括上盖组件与及不锈钢釜体(1)构成的密闭反应釜；所述的上盖组件包括上盖法兰(1)，上盖法兰(2)上设有与反应釜内连通的进气管(3)与出气管(4)；进气管(3)伸入反应釜内部；所述的上盖法兰(2)上还设有固态源盛放装置，所述的固态源盛放装置包括不锈钢直棒(5)与固态源存放筒(6)；不锈钢直棒(5)外径不小于固态源存放筒(6)外径，通过螺纹连接；固态源存放筒(6)一端伸入反应釜内部；固态源存放筒(6)中空侧壁设有多个通气孔道(7)；所述的上盖法兰(2)上还设有温控装置的热电阻(8)，热电阻(8)测温端伸入反应釜内部；所述的不锈钢釜体(1)外侧设有温控装置的加热环。
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