[发明专利]一种快速冷却沉积均匀金属氧化膜的装置及方法

摘要

本发明公开了一种快速冷却沉积均匀金属氧化膜的装置及方法，包括气氛控制系统、金属熔化及雾化系统和膜收集系统：气氛控制系统包括具备氧含量调节模块的保护气罩；金属熔化及雾化系统包括将金属熔化为液态的加热炉及与加热炉连接的雾化喷洒设备，所述雾化喷洒设备密封设置在保护气罩内；膜收集系统包括位于雾化喷洒设备下方的基底，所述基底密封设置在保护气罩内。本发明可实现不同成分金属的快速均匀沉积，可以简单改变膜的沉积条件并控制膜沉积厚度，随后取样对膜进行后期各项性质的研究，使对膜成分及性能研究变得可行。由于沉积膜喷洒较为均匀，不同位置的物化性质均相差不大，方便了样品各个性质的分析。

主权项

1.一种快速冷却沉积均匀金属氧化膜的装置，其特征在于包括：气氛控制系统，包括具备氧含量调节模块的保护气罩；金属熔化及雾化系统，包括将金属熔化为液态的加热炉及与加热炉连接的可旋转的雾化喷洒设备，所述雾化喷洒设备密封设置在保护气罩内；膜收集系统，包括位于雾化喷洒设备下方的基底，所述基底密封设置在保护气罩内，所述基底具有光滑表面，基底内部与冷却水进水管和冷却水出水管连接。