[发明专利]光强分布的检测系统有效
| 申请号： | 201710271505.5 | 申请日： | 2017-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN108731800B | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 黄磊;朱钧;金国藩;范守善 | 申请（专利权）人： | 清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | G01J1/42 | 分类号： | G01J1/42 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区清*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种光强分布的检测系统，包括一设置于生长基底表面的碳纳米管阵列，一冷却装置、一反射镜和一成像元件。所述冷却装置设置在所述生长基底与所述成像元件之间，所述冷却装置用于冷却所述生长基底使所述生长基底与所述碳纳米管阵列的接触表面维持恒温。所述反射镜与碳纳米管阵列间隔设置，且所述碳纳米管阵列设置于反射镜与基底之间。所述成像元件与所述冷却装置间隔设置。 | ||
| 搜索关键词： | 分布 检测 系统 | ||
【主权项】：
1.一种光强分布的检测系统，包括：一碳纳米管阵列，该碳纳米管阵列设置于所述生长基底，所述碳纳米管阵列用于吸收一待测光源所发出的光并辐射出可见光；一反射镜，所述反射镜与碳纳米管阵列间隔设置，所述反射镜用于反射碳纳米管阵列所辐射的可见光；一成像元件，所述成像元件用于对反射镜所反射的可见光成像；以及一冷却装置，所述冷却装置设置在所述生长基底与所述成像元件之间，且所述成像元件与所述冷却装置间隔设置，所述冷却装置用于冷却所述生长基底使所述生长基底与所述碳纳米管阵列的接触表面维持恒温。
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