[发明专利]一种基于二维有机分子半导体的快速铁电晶体管存储器及制备在审

专利信息
申请号: 201710274211.8 申请日: 2017-04-25
公开(公告)号: CN107275483A 公开(公告)日: 2017-10-20
发明(设计)人: 李昀;宋磊;王宇;施毅 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/30;H01L51/40
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)32249 代理人: 陈建和
地址: 210046 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种基于二维有机分子半导体的快速铁电晶体管存储器,以重参杂的p型硅为衬底,生长50‑250nm二氧化硅为绝缘层,在二氧化硅上通过热蒸镀的方法制备一层20‑50nm的金作为栅极,然后在栅极上旋涂一层铁电聚合物材料即聚(偏氟乙烯‑三氟乙烯),在P(VDF‑TrFE)上利用漂浮的咖啡环效应和相位分离法分别生长一层超薄的厚度2‑10nm的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和厚度5‑10nm的二辛基苯并噻吩苯并噻吩半导体层(C8‑BTBT),其中钝化层PMMA在二维半导体层C8‑BTBT下面,在半导体层上蒸镀金作为源极和漏极,制备成底栅顶接触结构的二维有机分子半导体铁电晶体管存储器。
搜索关键词: 一种 基于 二维 有机 分子 半导体 快速 晶体管 存储器 制备
【主权项】:
一种基于二维有机分子半导体的快速铁电晶体管存储器,其特征是以重参杂的p型硅为衬底,生长50‑250nm二氧化硅为绝缘层,在二氧化硅上通过热蒸镀的方法制备一层20‑50nm的金作为栅极,然后在栅极上旋涂一层铁电聚合物材料即聚(偏氟乙烯‑三氟乙烯)(P(VDF‑TrFE)),在P(VDF‑TrFE)上利用漂浮的咖啡环效应和相位分离法分别生长一层超薄的厚度2‑10nm的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和厚度5‑10nm的二辛基苯并噻吩苯并噻吩半导体层(C8‑BTBT),其中钝化层PMMA在二维半导体层C8‑BTBT下面,在半导体层上蒸镀金作为源极和漏极,这就制备成了底栅顶接触结构的二维有机分子半导体铁电晶体管存储器。
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