[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置在审
| 申请号： | 201710276838.7 | 申请日： | 2017-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN106873278A | 公开（公告）日： | 2017-06-20 |
| 发明（设计）人： | 陈传宝;尹小斌;马俊才 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种阵列基板及其制作方法、显示装置。该阵列基板包括衬底基板；栅极线，设置在衬底基板上且沿第一方向延伸；数据线，设置在衬底基板上且沿第二方向延伸；栅极线和数据线彼此交叉以限定像素区；有机膜，设置在栅极线与数据线上以及像素区内；以及像素电极，设置在有机膜上且在像素区内，其中，位于数据线正上方的有机膜具有第一厚度，位于像素电极正下方的有机膜具有第二厚度，第一厚度大于第二厚度。采用该阵列基板既可以降低功耗，也可以提高像素的开口率以及避免像素电极的搭接不良，从而达到改善画面显示的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括：衬底基板；栅极线，设置在所述衬底基板上且沿第一方向延伸；数据线，设置在所述衬底基板上且沿第二方向延伸；所述栅极线和所述数据线彼此交叉以限定像素区；有机膜，设置在所述栅极线与所述数据线上以及所述像素区内；以及像素电极，设置在所述有机膜上且在所述像素区内，其中，位于所述数据线正上方的所述有机膜具有第一厚度，位于所述像素电极正下方的所述有机膜具有第二厚度，所述第一厚度大于所述第二厚度。
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