[发明专利]裸眼立体显示光栅及制造方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201710277634.5 申请日: 2017-04-25
公开(公告)号: CN106959481A 公开(公告)日: 2017-07-18
发明(设计)人: 查国伟 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;G02F1/1335;G02B27/22
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 代理人: 钟子敏
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种裸眼立体显示光栅及制造方法、显示装置,方法包括:准备一透明基底;在透明基底上沉积金属氧化物层;在金属氧化物层上沉积金属光栅层,其中,金属氧化物层的反射率小于金属光栅层的反射率;采用光刻法对金属氧化物层及金属光栅层进行蚀刻以暴露部分透明基底,形成周期性排布的透光区及反光区。通过上述方式,本发明能够提高光线利用率及减少环境及面板光线所引起的颜色串扰及对比度降低等问题。
搜索关键词: 裸眼 立体 显示 光栅 制造 方法 显示装置
【主权项】:
一种裸眼立体显示光栅的制造方法,其特征在于,所述方法包括:准备一透明基底;在所述透明基底上沉积金属氧化物层;在所述金属氧化物层上沉积金属光栅层,其中,所述金属氧化物层的反射率小于所述金属光栅层的反射率;采用光刻法对所述金属氧化物层及所述金属光栅层进行蚀刻以暴露部分所述透明基板,形成周期性排布的透光区及反光区。
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