[发明专利]一种用于高压陶瓷的半导体釉及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710277960.6 申请日: 2017-04-25
公开(公告)号: CN107188417A 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 许五妮 申请(专利权)人: 许五妮
主分类号: C03C8/20 分类号: C03C8/20;C04B41/86
代理公司: 安徽信拓律师事务所34117 代理人: 娄尔玉
地址: 236500 安徽省阜阳市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 一种用于高压陶瓷的半导体釉,所述半导体釉由以下重量份的原料组成氧化镁17‑28份,碳酸钡15‑25份,氧化钴9‑12份,石英5‑7份,氧化铝粉12‑15份,石灰5‑8份,蛭石8‑10份,膨润土12‑15份,粉末状二氧化钛17‑28份,珍珠岩15‑25份,氧化铁9‑12份,白釉基料20‑25份,光泽剂8‑10份,防腐蚀剂5‑7份。本发明采用了特有的陶瓷釉料配方以及制作工艺,得到的半导体釉,具有较强的抗腐蚀性能,涂覆在高压电瓷外表面长时间保持性能稳定,表面光泽,使用寿命长,尤其适合用在环境恶劣的自然条件中。
搜索关键词: 一种 用于 高压 陶瓷 半导体 及其 制备 方法
【主权项】:
一种用于高压陶瓷的半导体釉,其特征在于,所述半导体釉由以下重量份的原料组成:氧化镁17‑28份,碳酸钡15‑25份,氧化钴9‑12份,石英5‑7份,氧化铝粉12‑15份,石灰5‑8份,蛭石8‑10份,膨润土12‑15份,粉末状二氧化钛17‑28份,珍珠岩15‑25份,氧化铁9‑12份,白釉基料20‑25份,光泽剂8‑10份,防腐蚀剂5‑7份。
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