[发明专利]高密度光栅的制作方法有效

专利信息
申请号: 201710278740.5 申请日: 2017-04-25
公开(公告)号: CN107093487B 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 李文超;陈鸣闽;李志成;李凌;辜嘉 申请(专利权)人: 中国科学院深圳先进技术研究院
主分类号: G21K1/06 分类号: G21K1/06
代理公司: 深圳智趣知识产权代理事务所(普通合伙) 44486 代理人: 王策
地址: 518000 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明适用于光学元件领域,公开了高密度光栅的制作方法及高密度光栅,其中,高密度光栅的制作方法包括以下步骤:制作低密度光栅步骤,制作n块光栅条宽度为a、光栅周期距离为A的低密度光栅,其中,n为大于或等于2的自然数,且n*aA;叠压步骤,将n块低密度光栅叠压固定在一起制成光栅条宽度为a、光栅周期距离为A/n的高密度光栅。本发明提供的高密度光栅的制作方法,先采用传统技术制作出光栅条宽度为a、光栅周期距离为A的低密度光栅,然后再将n块低密度光栅叠压固定在一起制成光栅条宽度为a、光栅周期距离为A/n的高密度光栅,实现了高密度光栅的制作,且其制作方法简单、易于实现,利于X射线相衬成像实验的开展。
搜索关键词: 高密度 光栅 制作方法
【主权项】:
高密度光栅的制作方法,其特征在于:包括以下步骤:制作低密度光栅步骤,制作n块光栅条宽度为a、光栅周期距离为A的低密度光栅,其中,n为大于或等于2的自然数,且n*a<A;叠压步骤,将n块所述低密度光栅叠压固定在一起制成光栅条宽度为a、光栅周期距离为A/n的高密度光栅。
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