[发明专利]一种GaN基发光二极管芯片及其制备方法在审
申请号: | 201710279152.3 | 申请日: | 2017-04-25 |
公开(公告)号: | CN108735871A | 公开(公告)日: | 2018-11-02 |
发明(设计)人: | 李晓明;陈康;闫宝华;刘琦;肖成峰;徐现刚 | 申请(专利权)人: | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/46 | 分类号: | H01L33/46 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 杨树云 |
地址: | 261061 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及一种GaN基发光二极管芯片及其制备方法,由下自上依次包括蓝宝石衬底、N‑GaN层、量子阱层、P‑GaN层、电流扩展层、钝化层,还包括P电极,P电极形成在电流扩展层上,P‑GaN层上设置有金属反射层,且金属反射层位于电流扩展层下方。本发明通过在外延层与电极之间设置金属反射层,将电极下方的出光通过金属反射层反射会芯片内,再在芯片内形成多次反射最终达到出光效果,该方法流程简便增加了出光效率,且表面电极不会因为吸光过多出现结温高影响芯片使用的问题,流程简便,适合规模化生产。 | ||
搜索关键词: | 金属反射层 电流扩展层 芯片 电极 制备 规模化生产 表面电极 出光效果 出光效率 多次反射 量子阱层 影响芯片 蓝宝石 钝化层 外延层 衬底 结温 吸光 反射 | ||
【主权项】:
1.一种GaN基发光二极管芯片,由下自上依次包括蓝宝石衬底、N‑GaN层、量子阱层、P‑GaN层、电流扩展层、钝化层,还包括P电极,所述P电极形成在所述电流扩展层上,其特征在于,所述P‑GaN层上设置有金属反射层,且所述金属反射层位于所述电流扩展层下方。
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