[发明专利]基于硫化钼和铜镓铟的光电传感器有效
申请号: | 201710283468.X | 申请日: | 2017-04-26 |
公开(公告)号: | CN106960886B | 公开(公告)日: | 2018-12-04 |
发明(设计)人: | 黄晓敏 | 申请(专利权)人: | 重庆黄桷树智能传感器研究院有限公司 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/0224;H01L31/032;H01L31/109 |
代理公司: | 深圳市兰锋知识产权代理事务所(普通合伙) 44419 | 代理人: | 曹明兰 |
地址: | 402760 重庆市璧*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | 本发明提供了一种新结构的光电传感器,包括透明导电氧化物栅线,在所述透明导电氧化物层和透明导电氧化物栅线上形成硫化钼层,所述硫化钼层对应透明导电氧化物层不具有栅线的位置形成周期性凹陷;在所述硫化钼层上形成铜镓铟层,所述铜镓铟层填充所述周期性凹陷且为上表面形成为一平面,最终形成了一个平整结构的光电传感器。 | ||
搜索关键词: | 基于 硫化 铜镓铟 光电 传感器 | ||
【主权项】:
1.一种基于硫化钼和铜镓铟的光电传感器,其特征在于,包含:绝缘基板;绝缘基板上的金属电极层;金属电极层上设置有透明导电氧化物层,所述透明导电氧化物层上设置有透明导电氧化物栅线,所述透明导电氧化物栅线间隔大于透明导电氧化物栅线的宽度;在所述透明导电氧化物层和透明导电氧化物栅线上形成硫化钼层,所述硫化钼层对应透明导电氧化物层不具有栅线的位置形成周期性凹陷;在所述硫化钼层上形成铜镓铟层,所述铜镓铟层填充所述周期性凹陷且为上表面形成为一平面;在所述铜镓铟层上形成ITO层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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