[发明专利]磁场提供装置、磁控溅射设备及磁控溅射的方法有效
| 申请号： | 201710286637.5 | 申请日： | 2017-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN107012440B | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 杜建华;王鑫 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁场提供装置、磁控溅射设备及磁控溅射的方法。该装置包括：多个磁场检测元件，在一检测平面内呈阵列分布，用于检测所述检测平面内不同位置的磁场强度；多个磁铁单元，分别与所述检测平面相对设置，多个磁场检测元件位于所述磁铁单元的磁场中；多个调节结构，每一磁铁单元分别与一个调节结构相连接，通过调节结构，所述磁铁单元相对于检测平面的距离变化，以调节磁场检测元件检测获得的磁场强度，所述检测平面上的磁场强度均匀。本发明所述装置，利用磁场检测元件检测距离磁铁单元预定距离的检测平面上的磁场强度，利用与磁铁单元相连接的调节结构实现对检测平面位置处磁场强度的调节，能够在检测平面上获得均匀磁场强度。 | ||
| 搜索关键词： | 磁铁单元 检测 磁场 磁场检测元件 磁场提供装置 磁控溅射设备 磁控溅射 检测距离 结构实现 距离变化 均匀磁场 平面位置 相对设置 预定距离 阵列分布 平面的 | ||
【主权项】：
1.一种磁场提供装置，其中，所述磁场提供装置包括多个磁铁单元和多个调节结构，其中每一所述磁铁单元分别与一个所述调节结构相连接，其特征在于，所述磁场提供装置还包括：多个磁场检测元件，在一检测平面内呈阵列分布，用于检测所述检测平面内不同位置的磁场强度；其中，多个磁铁单元分别与所述检测平面相对设置，多个所述磁场检测元件位于所述磁铁单元的磁场中；通过所述调节结构，所述磁铁单元相对于所述检测平面的距离变化，以调节所述磁场检测元件检测获得的磁场强度，使所述检测平面上的磁场强度均匀。
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