[发明专利]一种下压装置及对掩膜板的下垂量进行调节的方法有效
| 申请号： | 201710296340.7 | 申请日： | 2017-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN106987799B | 公开（公告）日： | 2020-04-21 |
| 发明（设计）人： | 刘明星;欧凌涛;甘帅燕;王徐亮 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 许志勇 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请涉及掩膜技术领域，尤其涉及一种下压装置及对掩膜板的下垂量进行调节的方法，用以改善现有技术中由于掩膜板在张网过程中会出现下垂而导致在蒸镀工艺中出现蒸镀不良的问题。本申请中下压装置主要包括：控制部件和连接所述控制部件的至少一个接触部件，其中，控制部件用于控制接触部件与待调节下垂量的掩膜板的预设区域的表面接触，并通过为接触部件施加预设压力以减小掩膜板的下垂量；预设区域包括：掩膜板中对应框架结构的第一区域或掩膜板中对应框架结构和夹爪之间区域的第二区域。由此，该方案中的下压装置进行下压处理能够减小或改善掩膜板的下垂量，从而，改善掩膜板在蒸镀过程中所可能产生的蒸镀不良问题，提升工艺良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 下压 装置 掩膜板 下垂 进行 调节 方法 | ||
【主权项】：
一种下压装置，其特征在于，包括：控制部件和连接所述控制部件的至少一个接触部件，所述控制部件用于控制所述接触部件与待调节下垂量的掩膜板的预设区域的表面接触，并通过为所述接触部件施加预设压力以减小所述掩膜板的下垂量；其中，所述预设区域包括：掩膜板中对应框架结构的第一区域或掩膜板中对应框架结构和夹爪之间区域的第二区域。
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