[发明专利]一种光‑光上转换钙钛矿薄膜太阳电池的制备方法在审
申请号: | 201710296525.8 | 申请日: | 2017-04-28 |
公开(公告)号: | CN107093672A | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
发明(设计)人: | 丁艳丽;尹乃强;乔红贞;王蒙;王莎莎 | 申请(专利权)人: | 商丘师范学院 |
主分类号: | H01L51/48 | 分类号: | H01L51/48 |
代理公司: | 郑州天阳专利事务所(普通合伙)41113 | 代理人: | 聂孟民 |
地址: | 476000 *** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及光‑光上转换钙钛矿薄膜太阳电池的制备方法,可有效解决利用光‑光上转换空穴传输层来减少钙钛矿薄膜太阳电池近红外光透过损失,提升光电流的问题,方法是,在清洁的透明导电薄膜FTO玻璃衬底上制备致密层,作为电子阻挡层;在电子阻挡层上,采用旋涂法制备多孔层,作为支架层;采用旋涂法制备钙钛矿薄膜,作为有源层;在钙钛矿薄膜上旋涂光‑光上转换空穴传输层,在空穴传输层上热蒸发一层Au、Ag或Al金属薄膜作为背电极,即成光‑光上转换钙钛矿薄膜太阳电池。本发明工艺简单,易操作,成本低,效果好,是太阳能电池上的创新,有良好的经济和社会效益。 | ||
搜索关键词: | 一种 转换 钙钛矿 薄膜 太阳电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种光‑光上转换钙钛矿薄膜太阳电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)在清洁的透明导电薄膜FTO玻璃衬底上制备致密层,导电薄膜FTO厚度为330‑370nm,致密层厚度30‑50nm,作为电子阻挡层;2)制备支架层:在电子阻挡层上,采用旋涂法制备多孔层,多孔层厚度为300‑600nm,作为支架层;3)制备有源层:采用旋涂法制备钙钛矿薄膜,钙钛矿薄膜厚度为300‑600nm,作为有源层;4)在钙钛矿薄膜上旋涂光‑光上转换空穴传输层:由上转换发光粉末均匀溶于空穴传输层的Spiro‑OMeTAD空穴传输层溶液中,旋涂而成,上转换发光粉末在空穴传输层中的浓度为0‑25mg/mL,空穴传输层的厚度为200‑300nm;所述的Spiro‑OMeTAD空穴传输层溶液是,将520mg双三氟甲烷磺酰亚胺锂溶于1mL乙腈溶液中,再将80mg Spiro‑OMeTAD、28.5μL 4‑叔丁基吡啶、17.5μL Li‑TFSI溶液共溶于1mL氯苯制成;5)采用热蒸发制备背电极:在空穴传输层上热蒸发一层Au、Ag或Al金属薄膜作为背电极,背电极厚度为50‑200nm,即成光‑光上转换钙钛矿薄膜太阳电池。
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