[发明专利]一种连续制备高硅硅钢薄带的方法及装置有效
申请号: | 201710300501.5 | 申请日: | 2017-05-02 |
公开(公告)号: | CN108796587B | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 龙琼;路坊海;罗咏梅;罗勋;李杨;凌敏;周登凤;黄芳;伍玉娇 | 申请(专利权)人: | 贵州理工学院 |
主分类号: | C25D15/00 | 分类号: | C25D15/00;C25D3/20;C25D5/50;C25D7/06;B22F9/04;C25D19/00 |
代理公司: | 贵阳中新专利商标事务所 52100 | 代理人: | 刘楠;李龙 |
地址: | 55000*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | 本发明提供一种连续制备高硅硅钢薄带的方法及装置,包括制备改性铁‑硅颗粒,将其加入到镀铁电镀液中,对电解区施加强度为0.001~0.2T的磁场,采用纯铁薄带或低硅硅钢薄带为阴极,以纯铁片或低硅钢板为阳极,利用复合镀方法,在阴极薄带上镀覆一层硅含量大于10wt%的复合镀层;最后,将阴极薄带干燥后放入带保护气体的电炉中进行连续热处理扩散处理,得到平均硅含量为6.5Wt%且分布均匀的高硅硅钢薄带。实现长尺寸、低温、连续操作,且可以制备出近终型的薄带,因此大幅度降低制备成本。本发明属于磁性材料制备、复合电镀技术领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 连续 制备 硅钢 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种连续制备高硅硅钢薄带的方法,其特征在于,包括如下步骤:首先,制备改性铁‑硅颗粒,将其加入到镀铁电镀液中;然后,对电解区施加强度为0.001~0.2T的磁场,采用0.05~0.5mm厚的纯铁薄带或者硅含量为0‑3wt%的低硅硅钢薄带为阴极,以纯铁片或者硅含量为0‑3wt%的低硅钢板为阳极,利用复合镀方法,在阴极薄带上镀覆一层硅含量大于10wt%的复合镀层;最后,将上述得到的阴极薄带干燥烘干后放入带保护气体的电炉中进行连续热处理扩散处理,得到平均硅含量为6.5Wt%且分布均匀的高硅硅钢薄带。
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