[发明专利]使用垂直型鳍式场效晶体管的超高密度随机存储器架构有效
申请号: | 201710302212.9 | 申请日: | 2017-05-02 |
公开(公告)号: | CN108807413B | 公开(公告)日: | 2020-06-23 |
发明(设计)人: | 肖荣福;郭一民;陈峻 | 申请(专利权)人: | 上海磁宇信息科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/11568 | 分类号: | H01L27/11568 |
代理公司: | 上海容慧专利代理事务所(普通合伙) 31287 | 代理人: | 于晓菁 |
地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种使用垂直型鳍式场效晶体管的超高密度随机存储器架构,包括:以垂直叠加的形式生成的第一半导体区域、第二半导体区域和第三半导体区域;在第三半导体区域正上方邻接地形成有漏极,在第一半导体区域正下方邻接地形成有源极,鳍式栅极以部分地环绕第二半导体区域的方式形成在第二半导体区域周围;其中鳍式栅极与第二半导体区域经由氧化物绝缘物隔开;第一半导体区域和第三半导体区域具有第一掺杂类型,第二半导体区域具有第二掺杂类型。 | ||
搜索关键词: | 使用 垂直 型鳍式场效 晶体管 超高 密度 随机 存储器 架构 | ||
【主权项】:
1.一种使用垂直型鳍式场效晶体管的超高密度随机存储器架构,其特征在于包括:以垂直叠加的形式生成的第一半导体区域、第二半导体区域和第三半导体区域;在第三半导体区域正上方邻接地形成有漏极,在第一半导体区域正下方邻接地形成有源极,鳍式栅极以部分地环绕第二半导体区域的方式形成在第二半导体区域周围;其中鳍式栅极与第二半导体区域经由氧化物绝缘物隔开;第一半导体区域和第三半导体区域具有第一掺杂类型,第二半导体区域具有第二掺杂类型。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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