[发明专利]一种集成螺线管型双层磁膜电感及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710302799.3 申请日: 2017-05-03
公开(公告)号: CN107039395B 公开(公告)日: 2019-06-21
发明(设计)人: 白飞明;何禹含;钟智勇;张怀武 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L23/522 分类号: H01L23/522
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 甘茂
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于集成电路工艺领域,提供一种集成螺线管型双层磁膜电感及其制备方法,用以进一步提升电感感值密度、降低衬底损耗。本发明包括硅衬底、下层磁芯膜、深埋层、下层线圈、绝缘层、上层磁芯膜、绝缘层及上层线圈;下层磁芯膜设置于硅衬底上,深埋层覆盖于硅衬底上、并将下层磁芯膜深埋,深埋层上表面还开设有下层线圈凹槽,下层线圈对应设置于下层线圈凹槽内;上层磁芯膜位于深埋层上,上层线圈位于上层磁芯膜上,下层线圈与上层磁芯膜之间、以及上层线圈与上层磁芯膜之间均设置绝缘层相隔离,上层线圈与下层线圈通过通孔导通;本发明采用双层磁芯膜结构,提高电感感值密度,降低线圈之间的寄生电容损耗,且制备工艺简单、制备成本低,有利于工业化生产。
搜索关键词: 一种 集成 螺线管 双层 电感 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种集成螺线管型双层磁膜电感,包括硅衬底、下层磁芯膜、深埋层、下层线圈、上层磁芯膜、绝缘层及上层线圈;其特征在于,所述下层磁芯膜设置于硅衬底上,深埋层覆盖于硅衬底上、并将下层磁芯膜深埋,所述深埋层上表面还开设有下层线圈凹槽,所述下层线圈对应设置于下层线圈凹槽内;所述上层磁芯膜位于深埋层上,所述上层线圈位于上层磁芯膜上,上层磁芯膜与深埋层之间、以及上层线圈与上层磁芯膜之间均设置绝缘层相隔离,所述绝缘层与上层磁芯膜均对应于下层线圈凹槽开设通孔,用于上层线圈与下层线圈导通。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710302799.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top