[发明专利]一种相控阵天线的幅相校准方法有效

专利信息
申请号: 201710306730.8 申请日: 2017-05-04
公开(公告)号: CN108809447B 公开(公告)日: 2020-10-02
发明(设计)人: 漆一宏;于伟;金奇 申请(专利权)人: 深圳市通用测试系统有限公司
主分类号: H04B17/12 分类号: H04B17/12;H04B17/10;H04B17/21
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 黄琼
地址: 518101 广东省深圳市宝安区西*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种相控阵天线的幅相校准方法,包括如下步骤:S1:测得初始采样点的待测辐射单元与参考辐射单元的合矢量功率;S2:改变待测辐射单元的相移量,测得合矢量功率,直至遍历移相器的360°相移量;S3:在新的采样点测得合矢量功率;S4:再次改变相移量,测得合矢量功率,直至遍历360°相移量;S5:重复S3~S4直至遍历预设采样点;S6:将所有合矢量功率拟合得到正弦曲线,得到待测辐射单元的相对幅相;S7:重复S1~S6,得到所有辐射单元的相对幅相;S8:将所有辐射单元的幅相调整到一致,完成相控阵天线的幅相校准。相比现有的旋转矢量法,本发明相当于提高了移相器的相移量分辨率,能够更精确地进行相控阵天线的幅相校准。
搜索关键词: 一种 相控阵 天线 校准 方法
【主权项】:
1.一种相控阵天线的幅相校准方法,其特征在于,包括如下步骤:S1:相控阵天线位于初始采样点,通过测量天线测得所述相控阵天线的待测辐射单元与参考辐射单元的合矢量功率;S2:改变所述待测辐射单元的移相器的相移量,所述参考辐射单元保持不变,测得所述合矢量功率,直至遍历移相器的360°相移量;S3:根据预设采样精度,改变所述待测辐射单元与参考辐射单元至测量天线的波程差,在新的采样点测得所述合矢量功率;S4:改变所述待测辐射单元的移相器的相移量,所述参考辐射单元保持不变,测得所述合矢量功率,直至遍历移相器的360°相移量;S5:重复S3~S4,直至遍历预设采样点;S6:将测得的所有合矢量功率拟合得到正弦曲线,获取所述正弦曲线的极值,据此得到待测辐射单元的相对幅相;S7:依次对所述相控阵天线的其他待测辐射单元重复步骤S1~S6,直至得到所有辐射单元的相对幅相;S8:将所有辐射单元的幅相调整到一致,完成相控阵天线的幅相校准。
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