[发明专利]金属辅助电极及使用其的显示器件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201710309567.0 申请日: 2017-05-04
公开(公告)号: CN107093680B 公开(公告)日: 2019-01-22
发明(设计)人: 罗程远;刘则 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/52
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 邢雪红;王卫忠
地址: 100015 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开提供一种金属辅助电极及使用其的显示器件的制造方法。显示器件的金属辅助电极的制造方法包括:在显示器件的像素界定层的顶部形成至少一个凹槽;以及通过转印的方法在所述像素界定层的顶部形成金属辅助电极。通过凹槽结构可以有效的增大金属辅助电极与顶电极接触面积,减小接触电阻,提高电极导电性能;通过转印的方法形成金属辅助电极可以简化工艺流程。
搜索关键词: 金属 辅助 电极 使用 显示 器件 制造 方法
【主权项】:
1.一种显示器件的金属辅助电极的制造方法,依次包括:在显示器件的像素界定层的顶部形成至少一个凹槽;以及通过转印的方法在所述像素界定层的顶部形成金属辅助电极;其中所述通过转印的方法在所述像素界定层的顶部形成金属辅助电极包括:在第一平面载台上涂布胶黏剂,将所述像素界定层的顶部放置在第一平面载台上,使所述像素界定层的顶部粘有胶黏剂;在第二平面载台上制作脱膜层,在脱膜层上制作薄金属层,将粘有胶黏剂的所述像素界定层的顶部与薄金属层对合,并施加压力,使薄金属层粘结在所述像素界定层的顶部;以及使薄金属层与脱膜层分离。
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