[发明专利]显示装置及其制造方法在审
| 申请号： | 201710313425.1 | 申请日： | 2017-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN107403746A | 公开（公告）日： | 2017-11-28 |
| 发明（设计）人： | 石井良典 | 申请（专利权）人： | 株式会社日本显示器 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;H01L27/12;H01L27/32;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人： | 陈伟,闫剑平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供显示装置及其制造方法，其目的在于实现改善相对于水分的阻挡特性、且变形少的柔性显示装置。有机EL显示装置在第一基板(100)上形成有TFT，在所述TFT之上形成有有机EL层(112)，其特征在于，在所述有机EL层(112)之上形成有保护层(114)，在所述第一基板100的外侧形成有包含AlOx层在内的第一基底层(10)。 | ||
| 搜索关键词： | 显示装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种有机EL显示装置，在第一基板上形成有TFT，在所述TFT之上形成有有机EL层，所述有机EL显示装置的特征在于，在所述有机EL层之上形成有保护层，在所述第一基板的外侧形成有第一基底层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
