[发明专利]一种电子元件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710317613.1 申请日: 2017-05-08
公开(公告)号: CN107134481A 公开(公告)日: 2017-09-05
发明(设计)人: 夏超;张琦;吴良松;陈锃基 申请(专利权)人: 工业和信息化部电子第五研究所华东分所
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/40;H01L29/78;H01L21/336
代理公司: 北京品源专利代理有限公司11332 代理人: 孟金喆
地址: 215400 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明实施例公开了一种电子元件及其制备方法,电子元件包括衬底;位于衬底上的埋氧层;位于埋氧层上的漂移层,漂移层的上表面形成有窗口;位于窗口内壁或者窗口内壁以及窗口下表面的掺杂区;位于窗口内的绝缘层,绝缘层包括至少一个第一绝缘层和至少一个第二绝缘层;位于绝缘层内的一个金属场板,金属场板与掺杂区对应设置;位于漂移层上或者绝缘层上远离埋氧层一侧的源极电极、栅极电极以及漏极电极。采用上述技术方案,第一绝缘层和第二绝缘层的界面交界处引入电场峰值,金属场板处引入电场峰值,可以提升漂移层的平均电场,提升电子元件的击穿电压。
搜索关键词: 一种 电子元件 及其 制备 方法
【主权项】:
一种电子元件,其特征在于,包括:衬底;位于所述衬底上的埋氧层;位于所述埋氧层上远离所述衬底一侧的漂移层,所述漂移层的上表面形成有窗口,所述漂移层上表面为所述漂移层远离所述埋氧层一侧的表面;位于所述窗口内壁,或者所述窗口内壁以及所述窗口下表面的掺杂区;位于所述窗口内的绝缘层,所述绝缘层包括至少一个第一绝缘层和至少一个第二绝缘层,所述第一绝缘层和所述第二绝缘层沿第一方向排列,所述第一方向与所述漂移层的上表面平行;位于所述绝缘层内的一个金属场板,所述金属场板与所述掺杂区对应设置;位于所述漂移层上远离所述埋氧层一侧或者所述绝缘层上远离所述埋氧层一侧的源极电极、栅极电极以及漏极电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于工业和信息化部电子第五研究所华东分所,未经工业和信息化部电子第五研究所华东分所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710317613.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top