[发明专利]太阳能电池硅片的处理方法在审
申请号: | 201710324497.6 | 申请日: | 2017-05-10 |
公开(公告)号: | CN107245760A | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
发明(设计)人: | 王永伟;朱杰;卫春燕;王猛;陈亮 | 申请(专利权)人: | 苏州日弈新电子科技有限公司 |
主分类号: | C30B33/10 | 分类号: | C30B33/10;C30B29/06 |
代理公司: | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙)32257 | 代理人: | 李广 |
地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种太阳能电池硅片的处理方法使用碱溶液在40‑90℃下对硅片表面进行化学腐蚀处理,以除去硅片表面的损伤层;将处理后的硅片在5‑40℃下浸入第一处理液中进行挖孔处理,然后在10‑40℃下浸入第二处理液中进行脱洗贵金属处理,其中,第一处理液包括氢氟酸、过氧化氢、贵金属离子和水,第二处理液包括氨水和水;将处理过的硅片在20‑40℃下浸入第三处理液进行扩孔处理,第三处理液包括氢氟酸、硝酸和水;将处理后的硅片水洗后浸入第四处理液进行修饰处理,第四处理液包括碱和水;将处理过的硅片在40‑90℃下浸入盐酸和过氧化氢的水溶液中以除去残余金属离子,然后在20‑40℃下浸入氢氟酸的水溶液中除去氧化层后,水洗、烘干。 | ||
搜索关键词: | 太阳能电池 硅片 处理 方法 | ||
【主权项】:
一种太阳能电池硅片的处理方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)使用碱溶液在40‑90℃下对硅片表面进行化学腐蚀处理,以除去所述硅片表面的损伤层;(2)将步骤(1)处理后的硅片在5‑40℃下浸入第一处理液中进行挖孔处理,然后在10‑40℃下浸入第二处理液中进行脱洗贵金属处理,其中,所述第一处理液包括氢氟酸、过氧化氢、贵金属离子和水,所述第二处理液包括氨水和水;(3)将步骤(2)处理过的硅片水洗后在20‑40℃下浸入第三处理液中进行扩孔处理,所述第三处理液包括氢氟酸、硝酸和水;(4)将步骤(3)处理后的硅片水洗后浸入第四处理液中进行修饰处理,所述第四处理液包括碱和水;(5)将步骤(4)处理过的硅片水洗后在40‑90℃下浸入盐酸和过氧化氢水溶液的混合溶液中以除去残余金属离子,水洗,然后在20‑40℃下浸入氢氟酸的水溶液中以除去氧化层,水洗、烘干。
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