[发明专利]半导体结构有效
申请号: | 201710324769.2 | 申请日: | 2017-05-10 |
公开(公告)号: | CN107403801B | 公开(公告)日: | 2020-03-31 |
发明(设计)人: | 王佑仁;黄国恩 | 申请(专利权)人: | 联发科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/088 | 分类号: | H01L27/088;H01L23/00 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何青瓦 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了半导体结构,其中一种半导体结构,可包括:半导体基板;位于所述半导体基板上的井区;射频电路,包括至少一个鳍式场效应晶体管,所述鳍式场效应晶体管包括位于所述井区之上的多个第一鳍片和多个第一多边形,其中,所述多个第一多边形与所述多个第一鳍片垂直;与所述射频电路相邻的第一保护环,所述第一保护环包括位于所述井区之上的多个第二鳍片和一对第二多边形,其中,所述第二多边形与所述多个第二鳍片垂直;第一隔离区,直接设置在所述射频电路和所述第一保护环之间;其中,所述多个第一鳍片与所述多个第二鳍片平行,且所述多个第一鳍片通过所述第一隔离区与所述多个第二鳍片隔离。实施本发明实施例,可减小半导体的区域。 | ||
搜索关键词: | 半导体 结构 | ||
【主权项】:
一种半导体结构,其特征在于,包括:半导体基板;位于所述半导体基板上的井区,所述井区具有第一导电类型;射频电路,所述射频电路包括至少一个鳍式场效应晶体管,所述鳍式场效应晶体管包括位于所述井区之上的多个第一鳍片和多个第一多边形,其中,所述多个第一多边形与所述多个第一鳍片垂直;与所述射频电路相邻的第一保护环,所述第一保护环包括位于所述井区之上的多个第二鳍片和一对第二多边形,其中,所述第二多边形与所述多个第二鳍片垂直;第一隔离区,直接设置在所述射频电路和所述第一保护环之间;其中,所述多个第一鳍片与所述多个第二鳍片平行,且所述多个第一鳍片通过所述第一隔离区与所述多个第二鳍片隔离。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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