[发明专利]磁控溅射装置、设备及磁控溅射方法有效
| 申请号： | 201710325061.9 | 申请日： | 2017-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN106929813B | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 杜建华;王鑫 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 11243 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁控溅射装置、设备及磁控溅射方法。该装置包括：靶材承载部，配置为在其上承载靶材；磁体承载部，配置为在其上承载磁体；电场施加单元，配置为提供电场，靶材处于电场之内；驱动单元，配置为当电场施加单元呈电场打开状态时，驱动磁体承载部运动，使磁体以预定路径上的一定位位置作为起始位置和终点位置，沿预定路径在第一限定边缘与第二限定边缘之间作往复运动；其中，在磁控溅射装置工作过程中，所述驱动单元间隔预设个往复运动周期，向所述电场施加单元输出关闭电场信号，调整所述定位位置。该装置能够解决现有技术磁控溅射过程所产生磁场作用下，靶材的边缘位置相较于中间位置被提前消耗完，造成靶材利用率低的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 装置 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射装置，其特征在于，包括：/n靶材承载部，配置为在其上承载靶材；/n磁体承载部，配置为在其上承载磁体；/n电场施加单元，配置为提供电场，所述靶材处于所述电场之内；/n驱动单元，配置为当所述电场施加单元呈电场打开状态时，驱动所述磁体承载部运动，使所述磁体以预定路径上的一定位位置作为起始位置和终点位置，沿所述预定路径在第一限定边缘与第二限定边缘之间作往复运动；/n其中，在磁控溅射装置工作过程中，所述驱动单元间隔预设个往复运动周期，向所述电场施加单元输出关闭电场信号，调整所述定位位置；/n所述磁控溅射装置还包括：/n测距单元，配置为检测所述磁体的位置，向所述驱动单元传输位置信息；/n其中，所述驱动单元根据所述位置信息确定所述预定路径上的所述定位位置，并驱动所述磁体移动至所述定位位置。/n
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