[发明专利]磁控溅射装置有效
| 申请号： | 201710325679.5 | 申请日： | 2017-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN106967955B | 公开（公告）日： | 2023-05-23 |
| 发明（设计）人： | 严清涛;陈齐松;刘海亮;陈宗维;王鹏涛;许非凡 | 申请（专利权）人： | 东旭（昆山）显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 金旭鹏;肖冰滨 |
| 地址： | 215300 江苏省苏州市昆山市开*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及物理气相沉积技术领域，公开了一种磁控溅射装置，解决了靶材边缘消耗过快，其他区域的靶材不能充分利用，靶材利用率低的问题。所述装置包括：磁场生成装置，包括磁履带和至少两个转动轮，其中所述磁履带包括履带和多个等间距并列固定在所述履带上的磁体，所述磁履带缠绕于所述至少两个转动轮上，形成上下平行的履带传动结构；靶材，设置在所述磁场生成装置形成的均匀磁场内，且与所述磁履带平行；两块磁屏蔽板，分别设置在所述靶材的两端，屏蔽超出所述靶材的磁场，其中，所述均匀磁场的长度大于等于所述靶材的长度，所述磁体的长度大于所述靶材的宽度。本发明实施例适用于磁控溅射过程中。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 装置 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射装置，其特征在于，包括：磁场生成装置，包括磁履带和至少两个转动轮，其中所述磁履带包括履带和多个等间距并列固定在所述履带上的磁体，所述磁履带缠绕于所述至少两个转动轮上，形成上下平行的履带传动结构；靶材，设置在所述磁场生成装置形成的均匀磁场内，且与所述磁履带平行；两块磁屏蔽板，分别设置在所述靶材的两端，屏蔽超出所述靶材的磁场，其中，所述均匀磁场的长度大于等于所述靶材的长度，所述磁体的长度大于所述靶材的宽度。
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