[发明专利]用于原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）工艺的颗粒反应器

摘要

一种粉末涂覆装置反应器包括用于粉末材料的装载端口、用于一种或多种涂层前驱体的入口，以及具有内表面和多个轴向挡板的反应室。每个轴向挡板都从回转容器的反应室的内表面向内延伸。多个轴向挡板配置为在回转容器的旋转期间保持粉末材料在反应室内流动以促进粉末材料与一个或多个涂层前驱体之间的接触。粉末涂覆装置进一步包括位于装载端口处的旋转真空密封件。粉末涂覆装置还包括电机，电机能够在粉末材料与涂层前驱体在所述反应室中反应期间致动回转容器绕中心轴线旋转。还提供了用于使用这种反应器涂覆粉末材料的方法。

主权项

一种粉末涂覆装置，其包含：回转容器，其包含用于接收粉末材料的装载端口、用于接收一个或多个涂层前驱体的入口，以及具有内表面和多个轴向挡板的反应室，其中所述多个轴向挡板中的每个轴向挡板都从所述回转容器的所述反应室的所述内表面向内延伸并且配置为在旋转期间保持所述粉末材料在所述反应室内流动以促进所述粉末材料与所述一个或多个涂层前驱体之间的接触；旋转真空密封件，其位于所述回转容器的所述装载端口；以及电机，其能够在所述粉末材料与所述涂层前驱体在所述反应室中反应期间致动所述回转容器绕中心轴线旋转。