[发明专利]表面波等离子体加工设备有效
| 申请号： | 201710329633.0 | 申请日： | 2017-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN108878243B | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | 卫晶;昌锡江 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种表面波等离子体加工设备，其包括反应腔室、用于向该反应腔室提供微波能量的微波传输机构及用于实现微波能量的激发和调谐的谐振机构，其中，谐振机构包括设置在反应腔室顶部的谐振腔和设置于谐振腔内的多个金属调节件；谐振腔的底壁上设置有介质窗，谐振腔内充满介质材料，多个金属调节件内嵌于所述介质材料中。本发明提供的表面波等离子体加工设备，其可以在保证谐振腔的真空密封的前提下，减小介质窗的厚度，从而可以减少微波能量损失，而且有利于对称性谐振模式的形成，从而可以提高电磁场的分布均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 表面波 等离子体 加工 设备 | ||
【主权项】：
1.一种表面波等离子体加工设备，其特征在于，该设备包括反应腔室、用于向所述反应腔室提供微波能量的微波传输机构及用于实现微波能量的激发和调谐的谐振机构，其中，所述谐振机构包括设置在所述反应腔室顶部的谐振腔和设置于所述谐振腔内的多个金属调节件；所述谐振腔的底壁上设置有介质窗，所述谐振腔内充满介质材料，多个所述金属调节件内嵌于所述介质材料中。
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