[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置在审
| 申请号： | 201710331020.0 | 申请日： | 2017-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN107092124A | 公开（公告）日： | 2017-08-25 |
| 发明（设计）人： | 张洁;郭攀;李伟;樊君 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 刘伟,胡影 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置。该阵列基板包括衬底基板以及设置于所述衬底基板上的设有过孔的绝缘层，还包括第一遮挡图形，所述过孔在所述衬底基板上的正投影完全位于所述第一遮挡图形在所述衬底基板上的正投影内。在阵列基板上设置遮挡图形，对绝缘层上的过孔进行遮挡，由于过孔与遮挡图形均设置在阵列基板上，因而具有较高的对位精度，从而不需要额外加大遮挡图形的尺寸，也能够保证将过孔全部遮挡，从而提高了开口率，进一步提高了显示品质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括衬底基板以及设置于所述衬底基板上的设有过孔的绝缘层，其特征在于，还包括：第一遮挡图形，所述过孔在所述衬底基板上的正投影完全位于所述第一遮挡图形在所述衬底基板上的正投影内。
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