[发明专利]光掩模的制造方法、光掩模及显示装置的制造方法

摘要

本发明提供光掩模的制造方法、光掩模及显示装置的制造方法，实现图案的CD精度及坐标精度良好的光掩模。在制造具有包括遮光部、半透光部及透光部的转印用图案的光掩模时，准备在透明基板(1)上层叠了半透光膜(2)、中间膜(3)及遮光膜(4)而成的光掩模坯体，通过蚀刻将成为遮光部的区域以外的区域的遮光膜(4)去除，然后形成抗蚀剂膜(6)。接着，对抗蚀剂膜(6)进行描画及显影而形成了抗蚀剂图案(6a)，然后通过蚀刻将半透光膜(2)去除。半透光膜(2)和遮光膜(4)都由Cr类材料形成，在将与透光部及半透光部分别相邻的遮光部设为中间遮光部时，在抗蚀剂图案形成工序中形成具有开口的抗蚀剂图案(6a)，该开口的尺寸相对于与中间遮光部相邻的透光部的设计尺寸A(μm)，在与中间遮光部相邻的边缘侧每一侧增加了裕量α(μm)。

主权项

一种光掩模的制造方法，该光掩模具有转印用图案，该转印用图案是通过对形成于透明基板上的遮光膜及半透光膜分别进行图案形成而形成的，具有遮光部、半透光部及透光部，其特征在于，所述转印用图案包括与所述透光部及所述半透光部分别相邻的所述遮光部，所述光掩模的制造方法包括以下工序：准备在所述透明基板上层叠了半透光膜、中间膜及遮光膜而成的光掩模坯体；遮光部形成工序，通过蚀刻将成为所述遮光部的区域以外的区域的遮光膜去除，形成所述遮光部；在形成有所述遮光部的所述透明基板上形成抗蚀剂膜；抗蚀剂图案形成工序，对所述抗蚀剂膜进行描画及显影，形成至少在所述透光部的区域具有开口的抗蚀剂图案；以及半透光膜蚀刻工序，通过蚀刻将从所述抗蚀剂图案露出的半透光膜去除，形成透光部，所述半透光膜和遮光膜由能够利用相同的蚀刻剂进行蚀刻的材料形成，在将与所述透光部及所述半透光部分别相邻的所述遮光部设为中间遮光部时，在所述抗蚀剂图案形成工序中形成具有开口的抗蚀剂图案，该开口的尺寸相对于与所述中间遮光部相邻的所述透光部的设计尺寸A，在与所述中间遮光部相邻的边缘侧，每一侧增加了裕量α，其中A和α的单位均为μm。