[发明专利]一种TiB2/AlTiN复合涂层及其制备方法与应用在审
| 申请号： | 201710340294.6 | 申请日： | 2017-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN107190243A | 公开（公告）日： | 2017-09-22 |
| 发明（设计）人： | 代伟;高翔;王启民;刘凡;费加喜 | 申请（专利权）人： | 广东工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司： | 广东广信君达律师事务所44329 | 代理人： | 杨晓松 |
| 地址： | 510062 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种TiB2/AlTiN复合涂层，所述TiB2/AlTiN复合涂层是以TiB2陶瓷靶和AlTi溅射靶为原料，通过多靶磁控溅射在基体上交替溅射沉积形成多层结构的TiB2/AlTiN复合涂层。所述TiB2/AlTiN复合涂层中AlTiN层与TiB2层的总层数为10～100层，调制周期的厚度为0.1～1μm。本发明的制备的TiB2/AlTiN复合涂层表现出了较高的硬度，良好的韧性和抗高温氧化性。本发明的磁控溅射双靶共沉积技术操作方便，无需后处理等工艺，制备周期短，成本低，可复现性好，应用范围广，可实现工业化大生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 tib2 altin 复合 涂层 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种TiB2/AlTiN复合涂层，其特征在于，所述TiB2/AlTiN复合涂层是以TiB2陶瓷靶和AlTi溅射靶为原料，通过多靶磁控溅射在基体上溅射沉积形成交替的TiB2层和AlTiN层。
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