[发明专利]用于处理两层介质的多偏移距绕射叠加的成像方法有效

专利信息
申请号: 201710340756.4 申请日: 2017-05-12
公开(公告)号: CN107153190B 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 李玉喜;沈绍祥;周斌;方广有;纪奕才 申请(专利权)人: 中国科学院电子学研究所
主分类号: G01S13/89 分类号: G01S13/89
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种用于处理两层介质的多偏移距绕射叠加的成像方法,包括:将探测区域离散网格化,分成M*N个网格,每个网格作为一个子波源,其中M、N为正整数;对于第i个子波源,从预处理后的标准化探测仪数据集中确定该子波源被每个接收天线接收到的能量,获得该子波源在每帧数据中对应的能量,其中i=1,2,……,M*N;对于第i个子波源,将该子波源在每帧数据中的能量按照帧数进行叠加,获得该子波源的总能量;以及遍历M*N个子波源,从而获得整个探测区域的地质情况进行成像。通过采用偏移成像中的绕射叠加方法,适用于具有一定高度、多偏移距、多输入多输出的雷达成像要求,且成像清晰,同时对于处理非均质、分层介质具有良好的优势。
搜索关键词: 用于 处理 介质 偏移 距绕射 叠加 成像 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院电子学研究所,未经中国科学院电子学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710340756.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top