[发明专利]光学层叠体及使用该光学层叠体的光学薄膜片的制造方法在审

专利信息
申请号: 201710341961.2 申请日: 2017-05-16
公开(公告)号: CN107390302A 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 樋口直孝;仲井宏太;杉本笃彦;李信兴;陈莛翔;高志维;何幸容 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B1/14 分类号: G02B1/14;G02B5/30
代理公司: 永新专利商标代理有限公司72002 代理人: 高迪
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种光学层叠体及使用该光学层叠体的光学薄膜片的制造方法。提供一种即使被提供给利用激光照射的切割工序也能够防止作为制品的光学薄膜的污染的光学层叠体,以及提供一种在包括利用激光照射的切割工序的光学薄膜片的制造方法中、能够防止作为制品的光学薄膜片的表面污染的制造方法。本发明的光学层叠体具备光学薄膜、和可剥离地配置在该光学薄膜的至少单侧的保护薄片;该光学薄膜是具备偏振板和配置在该偏振板的至少单侧的表面保护薄膜或隔膜的光学薄膜。
搜索关键词: 光学 层叠 使用 光学薄膜 制造 方法
【主权项】:
一种光学层叠体,其特征在于,具备光学薄膜、以及可剥离地配置在该光学薄膜的至少单侧的保护薄片;光学薄膜是具备偏振板、以及配置在该偏振板的至少单侧的表面保护薄膜或隔膜的光学薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710341961.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top