[发明专利]一种电感耦合等离子体刻蚀设备

摘要

本发明公开了一种电感耦合等离子体刻蚀设备，包括反应腔室，还包括快速无扰动气体注入装置和尾气处理装置，所述快速无扰动气体注入装置包括相互独立的刻蚀气体注入组件和侧壁沉积气体注入组件，所述刻蚀气体注入组件和所述侧壁沉积气体注入组件均包括进气管和两路注入管，所述进气管通过一路所述注入管与所述反应腔室连通，并通过另一路注入管与所述尾气处理装置连通。本发明具有结构简单、切换速度快、反应腔室内压力稳定等优点。

主权项

1.一种电感耦合等离子体刻蚀设备，包括反应腔室(1)，其特征在于：还包括快速无扰动气体注入装置和尾气处理装置(2)，所述快速无扰动气体注入装置包括相互独立的刻蚀气体注入组件(3)和侧壁沉积气体注入组件(4)，所述刻蚀气体注入组件(3)和所述侧壁沉积气体注入组件(4)均包括进气管(100)和两路注入管(200)，所述进气管(100)通过一路所述注入管(200)与所述反应腔室(1)连通，并通过另一路注入管(200)与所述尾气处理装置(2)连通，所述反应腔室(1)的顶部设有匀流顶盖(11)，所述匀流顶盖(11)上设有第一导流环(111)、一对第一连接管(112)及多条第一导流槽(113)，一对第一连接管(112)对称布置于所述第一导流环(111)两侧，刻蚀气体注入组件(3)的注入管(200)通过一对第一连接管(112)与第一导流环(111)连通，多条第一导流槽(113)平行等距布置于第一导流环(111)内且各第一导流槽(113)两端均与第一导流环(111)连通，各第一导流槽(113)底部开设有多个第一进气孔(114)，多个所述第一进气孔(114)沿第一导流槽(113)长度方向均匀布置，所述匀流顶盖(11)上还设有第二导流环(121)、一对第二连接管(122)及多条第二导流槽(123)，一对第二连接管(122)对称布置于所述第二导流环(121)两侧，侧壁沉积气体注入组件(4)的注入管(200)通过一对第二连接管(122)与第二导流环(121)连通，多条第二导流槽(123)平行等距布置于第二导流环(121)内且各第二导流槽(123)两端均与第二导流环(121)连通，各第二导流槽(123)底部开设有多个第二进气孔(124)，多个所述第二进气孔(124)沿第二导流槽(123)长度方向均匀布置，所述第一导流环(111)和所述第一导流槽(113)设于所述匀流顶盖(11)上部，所述第二导流环(121)和所述第二导流槽(123)设于所述匀流顶盖(11)底面，所述匀流顶盖(11)底面与所述第二导流槽(123)对应处设有朝下布置的凸起(131)，所述第二进气孔(124)设于所述凸起(131)上。