[发明专利]光刻图案化的方法在审
| 申请号： | 201710344344.8 | 申请日： | 2017-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN108121154A | 公开（公告）日： | 2018-06-05 |
| 发明（设计）人： | 陈彦豪;赖韦翰;王建惟;林进祥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/004 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 张福根;冯志云 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明一些实施例提供提供光刻图案化的方法，包括形成光致抗蚀剂层于基板上，其中光致抗蚀剂层包含聚合物、光敏剂、与光酸产生剂，其中光酸产生剂包含化学键合至硫的第一苯环与第二苯环，第一苯环与第二苯环更化学键合在一起，以增加光酸产生剂的敏感度；对光致抗蚀剂层进行曝光工艺；以及显影光致抗蚀剂层以形成图案化的光致抗蚀剂层。本发明提供敏感度增加的光致抗蚀剂材料，可增加光致抗蚀剂材料的敏感度。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂层 苯环 光酸产生剂 敏感度 光致抗蚀剂材料 光刻图案 化学键合 抗蚀剂层 曝光工艺 聚合物 光敏剂 图案化 基板 显影 | ||
【主权项】：
一种光刻图案化的方法，包括：形成一光致抗蚀剂层于一基板上，其中该光致抗蚀剂层包含一聚合物、一光敏剂、与一光酸产生剂，其中光酸产生剂包含化学键合至硫的一第一苯环与一第二苯环，该第一苯环与该第二苯环更化学键合在一起，以增加该光酸产生剂的敏感度；对该光致抗蚀剂层进行一曝光工艺；以及显影该光致抗蚀剂层以形成一图案化的光致抗蚀剂层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司，未经台湾积体电路制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710344344.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
