[发明专利]光源装置和投影仪在审

专利信息
申请号: 201710346518.4 申请日: 2017-05-17
公开(公告)号: CN107436528A 公开(公告)日: 2017-12-05
发明(设计)人: 坂田秀文;秋山光一 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;G02B27/10
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司11127 代理人: 李辉,马建军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供光源装置和投影仪,可抑制光源单元的大型化并且光损失较小。本发明的光源装置具有第一光源单元,其包含第一发光元件;第二光源单元,其包含第二发光元件和第三发光元件;第一光束转换光学系统;以及光线合成部。第一、第二、第三发光元件分别射出第一、第二、第三光束。光线合成部具有供第一、第二、第三光束分别入射的第一、第二、第三区域。在设第一、第二、第三光束中的一个光束为特定光束,设第二、第三区域排列的方向为第三方向时,第一光束转换光学系统以使特定光束入射到光线合成部时特定光束在第三方向上的尺寸比特定光束从第一光束转换光学系统射出时特定光束在第三方向上的尺寸小的方式,转换特定光束。
搜索关键词: 光源 装置 投影仪
【主权项】:
一种光源装置,其中,该光源装置具有:第一光源单元,其包含射出第一光束的第一发光元件,向第一方向射出包含所述第一光束的第一光线束;第二光源单元,其包含射出第二光束的第二发光元件和射出第三光束的第三发光元件,向与所述第一方向交叉的第二方向射出包含所述第二光束和所述第三光束的第二光线束;第一光束转换光学系统,其在设所述第一光束、所述第二光束以及所述第三光束中的一个光束为特定光束时,改变所述特定光束的尺寸;以及光线合成部,其设置于所述第一光束转换光学系统的下段,通过反射所述第一光线束和所述第二光线束中的任意一个光线束,生成包含所述第一光线束和所述第二光线束的合成光线束,所述光线合成部具有供所述第二光束入射的第二区域、供所述第三光束入射的第三区域以及供所述第一光束入射的第一区域,所述第一区域位于所述第二区域与所述第三区域之间,在设所述第二区域和所述第三区域排列的方向为第三方向时,所述第一光束转换光学系统以使所述特定光束入射到所述光线合成部时所述特定光束在所述第三方向上的尺寸比所述特定光束从所述第一光束转换光学系统射出时所述特定光束在所述第三方向上的尺寸小的方式,转换所述特定光束。
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