[发明专利]保持装置、光刻设备和制品制造方法有效
| 申请号： | 201710350096.8 | 申请日： | 2017-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN107422608B | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 桥本明人;崔长植;远藤淳生 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B7/02 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 林振波 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及保持装置、光刻设备和制品制造方法。一种保持装置，构造成使用多个设置在光学元件的外周部处的保持部将光学元件保持到基座部件上的，其中多个保持部包括多个构造成以六个自由度地保持光学元件的第一保持部和构造成约束在六个自由度之中的光学元件的光轴方向上的自由度的第二保持部，并且其中由多个第二保持部用于约束光学元件的光轴方向上的自由度的力大于用于约束其它自由度的力。 | ||
| 搜索关键词： | 保持 装置 光刻 设备 制品 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种保持装置，构造成使用设置在光学元件外周部处的多个保持部将光学元件保持到基座部件上，其中，所述多个保持部包括构造成以六个自由度保持光学元件的多个第一保持部和构造成限制六个自由度之中的光学元件光轴方向自由度的多个第二保持部，和其中，通过所述多个第二保持部用于限制光学元件光轴方向自由度的力大于用于限制其它自由度的力。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社，未经佳能株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710350096.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
