[发明专利]一种三维纳微图形的压印方法在审
| 申请号： | 201710354498.5 | 申请日： | 2017-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN107085353A | 公开（公告）日： | 2017-08-22 |
| 发明（设计）人： | 史晓华 | 申请（专利权）人： | 苏州光越微纳科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 苏州华博知识产权代理有限公司32232 | 代理人： | 黄丽莉 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市苏州工*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种三维纳微图形的压印方法，包括以下步骤S1、制作基于光刻胶上的三维立体模板；S2、在基底上阶段式旋涂光刻胶，阶段式旋涂光刻胶依次包括一次旋涂光刻胶、抽真空和二次旋涂光刻胶；S3、将制作于光刻胶上的图形作为模板压印到基底的光刻胶上。本发明相较于现有技术，一次旋涂光刻胶浸润基底，抽真空将旋涂光刻胶中的气体排出，二次旋涂光刻胶使得光刻胶均匀涂在基底上，降低产品表面粗糙度，提高产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 三维 图形 压印 方法 | ||
【主权项】：
一种三维纳微图形的压印方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、制作基于光刻胶上的三维立体模板；S2、在基底上阶段式旋涂光刻胶，阶段式旋涂光刻胶依次包括一次旋涂光刻胶、抽真空和二次旋涂光刻胶；S3、将制作于光刻胶上的图形作为模板压印到基底的光刻胶上。
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