[发明专利]静态随机存储器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710355742.X 申请日: 2017-05-19
公开(公告)号: CN108933137B 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 李勇 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: H01L27/11 分类号: H01L27/11
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 曲瑞
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请公开了一种静态随机存储器及其制造方法,涉及半导体技术领域。静态随机存储器包括:衬底;在衬底上用于PU的第一半导体柱和用于PG的第二半导体柱;第一隔离区和栅极堆叠结构。第一隔离区位于第一和第二半导体柱之间,包括:第一区和第二区。栅极堆叠结构包括:栅极电介质层,包括第一和第二部分,第一部分在第一半导体柱的侧面的一部分上,第二部分在第二半导体柱的侧面的一部分上;P型功函数调节层,包括在第一部分上的第一区域和在第一隔离区的一部分之上与第一区域邻接的第二区域;N型功函数调节层,包括第三区域和与其邻接的第四区域,第三区域在第二部分上,第四区域在第一隔离区的另一部分之上;栅极,在P型和N型功函数调节层上。
搜索关键词: 静态 随机 存储器 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710355742.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top