[发明专利]一种电子封装用Sn-Bi系复合钎料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710363564.5 申请日: 2017-05-22
公开(公告)号: CN107009045B 公开(公告)日: 2019-02-22
发明(设计)人: 修子扬;武高辉;陈国钦;姜龙涛;蒋涵;张强;杨文澍 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: B23K35/26 分类号: B23K35/26;B23K35/40
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 李红媛
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种电子封装用Sn‑Bi系复合钎料及其制备方法,它涉及一种电子封装用Sn‑Bi系复合钎料及其制备方法。本发明是要解决Sn‑58Bi钎料中硬脆性质的富Bi相所导致的合金延展性能降低,以及重熔服役和时效过程中,过厚的金属间化合物导致钎焊接头可靠性能变差的问题。方法:一、制备石墨烯/氧化铈复合增强体;二、增强体与钎料基体球磨混合;三、向增强体与钎料中加入助焊膏搅拌均匀;四、将上述混合物置于坩埚中于180℃下加热,取出倒入磨具冷却得到复合钎料块。本发明的复合钎料细化了焊点微观组织,大大提高了钎料的硬度,降低了钎料与基体界面的金属间化合物厚度,从而提高焊点的剪切强度。本发明用于制备Sn‑Bi系复合钎料。
搜索关键词: 一种 电子 封装 sn bi 复合 料及 制备 方法
【主权项】:
1.一种电子封装用Sn‑Bi系复合钎料,其特征在于电子封装用Sn‑Bi系复合钎料由增强体和Sn‑58Bi钎料组成;所述电子封装用Sn‑Bi系复合钎料中增强体的质量分数为0.005%~0.5%;所述增强体为石墨烯负载纳米级氧化铈或石墨烯负载微米级氧化铈,且所述增强体中石墨烯的质量分数为30%~90%;所述石墨烯负载纳米级氧化铈中石墨烯的粒径为2~10μm、厚度为20~50nm,纳米级氧化铈的粒径为10~20nm;所述石墨烯负载微米级氧化铈中石墨烯的粒径为2~10μm、厚度为20~50nm,微米级氧化铈的粒径为2~5μm。
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