[发明专利]一种沉铜挂篮及包括沉铜挂篮的运送装置在审
申请号: | 201710367375.5 | 申请日: | 2017-05-23 |
公开(公告)号: | CN107287581A | 公开(公告)日: | 2017-10-24 |
发明(设计)人: | 陈国康 | 申请(专利权)人: | 安徽达胜电子有限公司 |
主分类号: | C23C18/38 | 分类号: | C23C18/38 |
代理公司: | 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙)34124 | 代理人: | 丁瑞瑞 |
地址: | 242699 安徽省宣城市旌德县*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 一种沉铜挂篮及包括沉铜挂篮的运送装置,包括沉铜挂篮,所述沉铜挂篮包括挂篮支架、上夹持层、下夹持层,所述上夹持层和下夹持层上下平行设置在挂篮支架上,上夹持层和下夹持层的向对面上均设置有阻隔块,阻隔块的两端处设置翻转盖板,所述下夹持层的阻隔块的下方设置有下层板,所述上夹持层和下夹持层之间的距离可调。该挂篮和运送装置的优点在于这样沉铜的溶液可以很好穿过每个电路板上的孔,并且上夹持层和下夹持层支架之间的距离可调,这样可以适用于不用长度或宽度的电路板。 | ||
搜索关键词: | 一种 挂篮 包括 运送 装置 | ||
【主权项】:
一种沉铜挂篮,其特征在于,包括沉铜挂篮,所述沉铜挂篮包括挂篮支架、上夹持层、下夹持层,所述上夹持层和下夹持层上下平行设置在挂篮支架上,上夹持层和下夹持层的向对面上均设置有阻隔块,阻隔块的两端处设置翻转盖板,所述下夹持层的阻隔块的下方设置有下层板,所述上夹持层和下夹持层之间的距离可调。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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